香港理工大學(理大)今日(18日)公布，由理大率領的團隊在一項新研究中，實現了一種備受追捧的納米級物料電行為。由於這種寶貴鐵電特性能，有潛力進行大規模複製，而且難度被降至前所未及的水平，預料電子製造商將對此大感興趣。

　任何物質的原子厚度單層結構，都具有與塊狀物料截然不同的特性，其中最為人熟知的，要數僅有原子厚度的石墨烯。將幾個原子厚度層堆疊起來，有可能產生於單層結構時不存在的新特性。理大應用物理學系納米材料講座教授兼系主任劉樹平領導的團隊，研究了由二硫化鉬(MoS2)和二硫化鎢(WS2)合組的雙層堆疊，觀察到這種物料不僅具有壓電性，還展現出鐵電效應，有關發現令人雀躍。

　鐵電物料具有電極化本質，只要簡單施加電流便可切換。由於鐵電物料擁有在兩種狀態之間切換的能力，所以被廣泛應用於感測器、電容器和數據存儲。電子業特別有興趣開發以鐵電體為基礎的超薄裝置，尤其希望在納米級生產時仍能保持其特性。然而到目前為止，這仍是主要障礙。

　與純MoS2或WS2的單分子層相比，這兩種化合物的納米級堆疊產生了強烈的鐵電反應。研究團隊通過調整堆疊角度來為雙層堆疊製成不同版本，做法好像把一個鐘面覆蓋在另一個鐘面上，兩個鐘面的12時位置對齊或移位。兩類雙層堆疊都表現出非常強的壓電性和鐵電性。

　劉樹平表示，計算機記憶體等高科技行業將受惠於這種新型納米級鐵電體。這些原子厚度的雙層物料具有低成本、低耗能和可靠的複製性，有望擴大製造規模，從而推動現代電子產品的前沿發展。今次二維鐵電材料研究，理大團隊聯同中國人民大學、劍橋大學，以及南京大學學者合作。有關研究發現刊載於國際學術期刊《科學》(Science)。（記者 馮煒強）

　頂圖圖說：劉樹平教授指，計算機記憶體等高科技行業將受惠於理大研究發現的新型納米級鐵電體。