近期,一則消息在各大視頻平台廣為傳播,稱清華大學EUV項目把ASML的光刻機巨大化,實現了光刻機國產化,並表示這個項目已經在雄安新區落地。
對此,中國電子工程設計院有限公司(下稱中國電子院)9月18日發聲,稱該項目並非網傳的國產光刻機工廠,而是北京高能同步輻射光源項目(HEPS)。
北京高能同步輻射光源項目坐落於北京懷柔雁棲湖畔,是國家「十三五」重大科技基礎設施,它是我國第一台高能量同步輻射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開始建設,將於2025年底投入使用。
中國電子院解釋稱,HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機,它產生的小光束可以穿透物質、深入內部進行立體掃描,從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界,HEPS是進行科學實驗的大科學裝置,並不是網傳的光刻機工廠。
頂圖:北京高能同步輻射光源項目實拍圖。圖源中國電子院